在這個以科技作為核心競爭力的時代,擁有先進(jìn)的高新科技和技術(shù),這無疑是發(fā)展的重要關(guān)鍵點所在。近幾十年來,我國在科技方面的進(jìn)步速度也是非常迅速,在很多科技領(lǐng)域上,都逐漸地追趕上了西方的步伐。中國科技的崛起,也是我國穩(wěn)健的發(fā)展步伐。在一些技術(shù)領(lǐng)域方面的缺陷是比較明顯的,由于早期我們的起步就比較晚了,所以現(xiàn)在想要有所提升,也許要付出更多的努力。
近期以來,在全球范圍內(nèi)的科技領(lǐng)域當(dāng)中,芯片成為了熱門話題。作為很多高新產(chǎn)業(yè)必不可少的零部件,其重要性不言而喻。就目前來看我國在高端芯片的領(lǐng)域當(dāng)中,和世界頂尖水平還是存在著較大的差距的。在這方面最讓大家頭疼的其實就是芯片制造領(lǐng)域,我國雖然有很多的一些芯片研制能力提升,但是最主要的一個缺陷就在于光刻機(jī)的研制。但是如果仔細(xì)的來分析中國現(xiàn)在的發(fā)展的話,我們?nèi)钡牟粌H僅是光刻機(jī),就算現(xiàn)在能夠買進(jìn)光刻機(jī)在其他方面的欠缺也還是比較明顯的。除開主要的光刻機(jī)之外在光刻膠的發(fā)展上也是我們的短板,在芯片上的一些生產(chǎn)材料都是我們比較難以補(bǔ)上的。
光刻機(jī)是大家已經(jīng)非常清楚的,另一種東西就是光刻膠,光刻膠是在芯片生產(chǎn)過程當(dāng)中,關(guān)于一些細(xì)微圖形加工的關(guān)鍵材料。它和早期的照相機(jī)沖洗膠卷其實是一樣的道理,由于是一種有機(jī)化合物,在被紫外線曝光之后,就會產(chǎn)生變化,而我國關(guān)于芯片的研制是非常有突破的,所以即使有了這一技術(shù),也還沒有無法在這方面進(jìn)行補(bǔ)助,所以想要自主生產(chǎn)芯片,困難還是比較大。由于光刻膠的分辨率遠(yuǎn)遠(yuǎn)要高于普通的膠卷,所以它是需要用顯微鏡才能看清楚的,這也在制造過程當(dāng)中帶來了更多的難題。
其它另一個難點,可能聽說過的人就比較少了。我國芯片發(fā)展的另一大難題,正是被稱為芯片之母的EDA。所謂的EDA,指的就是電子設(shè)計自動化,其是一種利用計算機(jī)輔助設(shè)計軟件,來進(jìn)行超大規(guī)模集成電路芯片的功能設(shè)計、版圖、物理設(shè)計、設(shè)計規(guī)則檢查等流程的技術(shù)。
除開技術(shù)之外,它的生產(chǎn)還涉及了專利以及保護(hù)的問題,國內(nèi)的公司即使知道了它的一些配方和生產(chǎn)工藝,也是無法完成自主生生產(chǎn)的,畢竟受到了專利的保護(hù),所以這也是我們在新品建設(shè)領(lǐng)域難以發(fā)展的一大原因。即使近年來我們的發(fā)展比較有優(yōu)勢,但是想要獲得一些更好的能力成就也還是比較困難的,我們在高端制造領(lǐng)域難以達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),想有所發(fā)展就更要克服困難。